Magnetron sputtering coating masjien vir plastiek weggooibare eetgerei
Tipe tegnologie: fisiese dampneerlegging magnetron sputtering
- Toepaslike materiale: in ABS, PP en ander weggooibare eetgerei
- Bedekkingstipe: vlekvrye staalbedekking
- Toerusting grootte: volgens die vereistes van die kliënt, kan verskillende groottes van produksie ontwerp enkelkamer enkeldeur, enkelkamer dubbeldeur, dubbelkamer toerusting
- Beheerstelsel: PLC-beheerstelsel (outomaties, handmatig opsioneel)
- Kragtoevoer: intermediêre frekwensie GS kragtoevoer
- Toerustingkleur: beskikbaar vir klante om aan te pas
- Bedekkingsiklus: 10-15 minute
- Operateurs: 2-3
- Kragverbruik per uur: ongeveer 40 KW
- Materiaal: koolstofstaal of vlekvrye staal
- Prosesgas: Argon
- Ondersteunende werke: saamgeperste lug en koelwater
- Vloeroppervlakte: 5 * 4 * 3m (L * B * H)
Voordele van sputterbedekking
- Eerstens is die reeks plaatmateriaal wyd.
- In teenstelling met verdampingsbedekking, wat deur die smeltpunt beperk word en slegs die bedekkingsmateriaal met 'n relatief lae smeltpunt kan gebruik, word sputterfilm gesputter deur 'n hoëspoed-bombardement van argon-ione, en byna alle vaste stowwe kan die bedekkingsmateriaal word.
- Tweedens het die filmdikte goeie stabiliteit.
- Omdat die dikte van die sputterbedekkingslaag 'n baie groot verband het met die teikenstroom en die ontladingsstroom, hoe hoër die stroom, hoe groter is die sputterdoeltreffendheid, en terselfdertyd is die dikte van die bedekkingslaag relatief groot.Want solank as wat die huidige waarde goed beheer word, kan dit so dun en so dik as wat jy wil binne die toelaatbare reeks uitgeplaat word.En solank die stroom goed beheer word, maak nie saak hoeveel keer die platering herhaal word nie, sal die dikte van die film nie verander nie, wat ook sy stabiliteit toon.
- Derdens is die bindende krag van die film sterk.
- In daardie sputterproses kan 'n deel van elektron die oppervlak van 'n basismateriaal beïnvloed om oppervlakatome te aktiveer en 'n skoonmaak-effek te genereer, die energie wat verkry word deur die plaatmateriaal te sputter, is 1 tot 2 ordes van grootte hoër as die energie wat verkry word deur verdamping, en wanneer die atome van die plateringsmateriaal met so 'n hoë energie 'n impak op die oppervlak van die basismateriaal het, kan meer energie na die basismateriaal oorgedra word om meer hitte-energie op te wek. Die atome wat deur die elektrone geaktiveer word, word versnel om te beweeg en word onderling saamgesmelt met deel van die plateringsmateriaal atome vroeër,
- Die atome van ander plaatmateriaal word agtereenvolgens neergelê om 'n film te vorm, waardeur die bindingskrag tussen die filmlaag en die substraat versterk word.
- Die rede waarom magnetronsputtering aanbeveel word om plastiese weggooibare eetgerei te bedek, is dat vlekvrye staal as die grondstof vir coating gebruik kan word.In vergelyking met vakuumweerstand-verdampingsbedekking, wat aluminium as grondstof gebruik, is magnetron-sputterbedekking gesonder en kan die FDA-standaardsertifisering vir eetgerei slaag.
Skryf jou boodskap hier en stuur dit vir ons
